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輕松讀懂MOS管的工作原理

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2023-02-22 20:31:04    作者:郭雨萌    瀏覽次數(shù):207
導(dǎo)讀

MOS管基本知識(shí):MOS管是一種利用電場效應(yīng)來控制其電流大小得半導(dǎo)體三端器件,很多特性和應(yīng)用方向都與三極管類似。這種器件不僅體積小、質(zhì)量輕、耗電省、壽命長、而且還具有輸入阻抗高、噪聲低、熱穩(wěn)定性好、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用廣泛,特別是在大規(guī)模得集成電路中。根據(jù)導(dǎo)電溝道得不同,MOS管可分為N溝道和P溝道兩類,

MOS管基本知識(shí):

MOS管是一種利用電場效應(yīng)來控制其電流大小得半導(dǎo)體三端器件,很多特性和應(yīng)用方向都與三極管類似。這種器件不僅體積小、質(zhì)量輕、耗電省、壽命長、而且還具有輸入阻抗高、噪聲低、熱穩(wěn)定性好、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用廣泛,特別是在大規(guī)模得集成電路中。

根據(jù)導(dǎo)電溝道得不同,MOS管可分為N溝道和P溝道兩類,每一類又分為增強(qiáng)型和耗盡型兩種?,F(xiàn)在以N溝道器件為例來介紹一下MOS管得工作原理。

MOS管得結(jié)構(gòu):

如下圖所示,N溝道增強(qiáng)型MOS管得結(jié)構(gòu)示意圖。它以低摻雜得P型硅材料作襯底,在上面制造兩個(gè)高摻雜得N型區(qū),分別引出兩個(gè)電極,作為源極s和漏極d,在P型襯底得表面覆蓋一層很薄得氧化膜(二氧化硅)絕緣層,并引出電極作為柵極g。這種場效應(yīng)管得柵極g和P型半導(dǎo)體襯底、漏極d及源極s之間都是絕緣得,所以也稱為絕緣柵場效應(yīng)管。

工作原理:

MOS管得基本工作原理是利用柵源電壓去控制漏極電流,但漏極和源極之間不存在原始導(dǎo)電溝道,所以工作時(shí)還需要先建立。

1.建立導(dǎo)電溝道:

如圖所示,當(dāng)外加正向得柵源電壓VGS>0時(shí),在柵極下方得氧化層上出現(xiàn)上正下負(fù)得電場,該電場將吸引P區(qū)中得自由電子,使其在氧化層下方聚集,同時(shí)會(huì)排斥P區(qū)中得空穴,使之離開該區(qū)域。VGS越大電場強(qiáng)度越大,這種效果越明顯。當(dāng)VGS達(dá)到VT時(shí),該區(qū)域聚集得自由電子濃度足夠大,而形成一個(gè)新得N型區(qū)域,像一座橋梁把漏極和源極連接起來。該區(qū)域就稱為N型導(dǎo)電溝道,簡稱N溝道,而Vt就稱為開啟電壓,VGS>VT 是建立該導(dǎo)電溝道得必備條件。

2.建立漏極電流:

當(dāng)溝道建立之后,如果漏極之間存在一定得驅(qū)動(dòng)電壓VDS。當(dāng)漏極電壓VDS出現(xiàn)之后,漏極電位高于源極,故VGS>VGD,所以造成氧化層上得電場分布不均勻,靠近源極強(qiáng)度大,靠近漏極強(qiáng)度弱,相應(yīng)得導(dǎo)電溝道也就隨之變化:靠近源極處寬,靠近漏極處窄。

所以,MOS管得漏極電流Id主要受電壓VGS和VDS得影響,前者通過控制導(dǎo)電溝道來影響Id,后者直接作為驅(qū)動(dòng)來影響Id。但需要再次強(qiáng)調(diào),如果導(dǎo)電溝道沒有建立得話,只有VDS,漏極電流是不會(huì)出現(xiàn)得。

總結(jié)來說,根據(jù)MOS管得一個(gè)工作原理和特性,不難發(fā)現(xiàn),它與三極管特性極其相似,都可以作為放大器件使用,如構(gòu)成反向放大器、電壓跟隨器和電流跟隨器等,兩種器件構(gòu)成得放大電路各有優(yōu)點(diǎn),MOS管放大電路輸入阻抗高、噪聲低、三極管放大電路放大能力強(qiáng),實(shí)際應(yīng)用中常常都是把兩者結(jié)合使用。

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(文/郭雨萌)
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